112年7月20日(四)晶片前瞻設計技術工作坊_7月場@成大會館

因應目前市場需求且國內半導體技術快速升級,目前聯盟已著手開發前瞻工具、前瞻製程、前瞻運算等方向發展相關教材,並以技術為導向,建立師資能量與產學平台、培養前瞻技術人才。後續將繼續開發前瞻設計相關教材,已完整整體晶片前瞻技術之教材。


本次「晶片前瞻設計技術工作坊」活動邀請Cadence來講授【前瞻設計】相關主題課程,包含先進製程類比 FinFET 前端設計挑戰與解方、先進製程類比 FinFET 後端布局設計挑戰與解方、採用更好的方法 應對射頻(RF)設計挑戰及以全新方法論 迎擊矽光子設計挑戰等課程,讓與會者有更多的認識。

 

【7月場_晶片前瞻設計技術工作坊@成大會館】


■  時間:112年7月20日(四)上午10:00 ~ 16:30
■  地點:臺南成大會館

■  交通資訊:台南市東區大學路2號

■  對象:有興趣之大專院校師生、業界人士

■  人數限制:30人

■  會員報名網址:https://reurl.cc/94Xmoa

■  收費報名網址:https://reurl.cc/11YnMQ(1,500元)

■  報名時間:即日起至112年7月6日(四)前(若達人數上限將提前關閉報名系統)

■  活動議程