112年5月18日(四)晶片前瞻設計技術工作坊_5月場@國立陽明交通大學
因應目前市場需求且國內半導體技術快速升級，目前聯盟已著手開發前瞻工具、前瞻製程、前瞻運算等方向發展相關教材，並以技術為導向，建立師資能量與產學平台、培養前瞻技術人才。後續將繼續開發前瞻設計相關教材，已完整整體晶片前瞻技術之教材。
本次「晶片前瞻設計技術工作坊」活動邀請Cadence李宗穎處長講授【前瞻設計】相關主題課程，包含先進製程類比 FinFET 前端設計挑戰與解方、先進製程類比 FinFET 後端布局設計挑戰與解方、採用更好的方法 應對射頻(RF)設計挑戰及以全新方法論 迎擊矽光子設計挑戰等課程，讓與會者有更多的認識。
【5月場_晶片前瞻設計技術工作坊】
■ 時間：112年5月18日(四)上午9:30 ~ 16:30
■ 地點：國立陽明交通大學(交大校區)工程四館4樓 EB417室(新竹市東區大學路1001號)
■ 地圖：
■ 對象：有興趣之大專院校師生、業界人士
■ 人數限制：30人
■ 已加入會員之企業報名網址：https://reurl.cc/XL3Nxj
■ 企業上課報名網址(費用1,500元)：https://reurl.cc/ZXd3r3(繳費成功才完成報名)
■ 報名時間：即日起至112年5月11日(四)前(若達人數上限將提前關
